«Микрон» испытывает первый российский фоторезист для 90-нм техпроцесса

«Микрон», крупнейший российский производитель микроэлектроники (входит в группу компаний «Элемент», ELMT), резидент ОЭЗ «Технополис Москва», сообщил об успешном тестировании первого высокочувствительного фоторезиста отечественного производства для техпроцессов с топологическими нормами 90 нм.

В техпроцессах Микрона используется 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей, ведется активная работа по замене всех компонентов отечественными аналогами в целях обеспечения технологического суверенитета.

«Выпуск отечественных материалов для микроэлектроники открывает путь к прекращению монополии иностранных игроков. Работы по импортозамещению важно вести в кооперации с научными учреждениями – тогда исследования сразу переходят в производство, — отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон». – Отечественный фоторезист для 90 нм — это важная веха в импортозамещении материалов и развитии производства микроэлектроники. «Микрон» ведет беспрецедентную в мировой практике замену материалов на действующем производстве. Приглашаем к сотрудничеству всех заинтересованных производителей».

В программе «Микрона» по импортозамещению материалов участвуют в настоящее время более 16 российских производителей и научных институтов. Новый отечественный фоторезист выпускается на предприятии Приволжского федерального округа, крупнейшего в стране центра химической промышленности, обеспечивающего более 40% от общего объема производства российских химических материалов.

Фоторезист – светочувствительный полимерный материал для фотолитографии, который используется в ключевом процессе изготовления интегральных микросхем с целью получить на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Строгое соответствие материала необходимым техническим требованиям и стандартам микроэлектронного производства обеспечивает точное формирование элементов на пластине.

Отечественная электронная компонентная база — основа технологической независимости и безопасности страны, так как микроэлектроника — это одна из критических и сквозных технологий. Развитие устройств и систем на основе отечественной ЭКБ является одним из ключевых направлений стратегии развития радиоэлектронной промышленности. Согласно Концепции технологического развития, Россия должна создать собственную базу критических и сквозных технологий и доля отечественных чипов, высокоточных станков, продукции робототехники, фармацевтики и медицинского оборудования, телекоммуникационной техники, программного обеспечения и авиакосмической техники в общем объеме потребления должна составить не менее 75% в 2030 году.

20 — 21 февраля 2025 года «Микрон» представил работу по импортозамещению высокочистых химических материалов и электронных газов, применяемых в производстве, на III Форуме будущих технологий «Новые материалы и химия», который проходил в Москве.

ГК «Микрон» – единственное в РФ серийное производство микроэлектроники с топологией до 90 нм, входит в группу компаний «Элемент» (ELMT), резидент ОЭЗ «Технополис Москва». Микрон производит более 800 типономиналов продукции на топологических нормах до 90 нм, включая интегральные схемы для автоэлектроники, интернета вещей, жестких условий эксплуатации, защищенных носителей данных, идентификационных, платежных и транспортных документов, управления питанием и RFID-маркировки для различных отраслей цифровой экономики, в том числе микросхемы в реестре отечественной промышленной продукции.

ПАО «Элемент» является одним из крупнейших разработчиков и производителей электроники, лидером в области микроэлектроники в России. В состав Группы входят более 30 компаний по производству интегральных микросхем, полупроводниковых приборов, силовой электроники, модулей, корпусов для микросхем, а также радиоэлектронной аппаратуры. Продукция ПАО «Элемент» имеет широкое применение в различных отраслях экономики.

Сообщение «Микрон» испытывает первый российский фоторезист для 90-нм техпроцесса появились сначала на Время электроники.